光催化降解反應釜CY-GHX-DC光化學反應裝置的詳細資料：
光催化降解反應釜CY-GHX-DC光化學反應裝置
技術(shù)參數(shù)：
型號：CY-GHX-DC多功能控溫光化學反應儀
（一）主體部分
1.光源功率可連續(xù)調(diào)節(jié)大小。
2.集成式光源控制器，可供汞燈、氙燈、金鹵燈等多種光源使用。
3.汞燈功率調(diào)節(jié)范圍：0~1000W可連續(xù)調(diào)節(jié)。
4.氙燈功率調(diào)節(jié)范圍：0~1000W可連續(xù)調(diào)節(jié)。
5.金鹵燈功率調(diào)節(jié)范圍：0~500W可連續(xù)調(diào)節(jié)。
（二）小容量反應部分
1.石英試管規(guī)格：30ml、50ml（或定做）。
2.可同時處理8個樣品（或定做）。
3.八位磁力攪拌裝置可同步調(diào)節(jié)8個樣品的攪拌速度。
（三）大容量反應部分
1.玻璃反應器皿可以分別選用250ml、500ml、1000ml等（或定做）。
2.大功率強力磁力攪拌器使樣品充分混勻受光。
（四）控溫裝置
1.冷卻水循環(huán)裝置制冷量：＞1000W
2.控溫范圍：-5°C到100°C
3.冷卻水循環(huán)裝置設(shè)有腳輪和底部排液閥。
大容量光化學反應儀產(chǎn)品配置：
配置單 | 數(shù) 量 |
控制主機 | 1臺 |
反應暗箱 | 1臺 |
光源控制器 | 1臺 |
雙層石英冷阱 | 1個 |
汞燈（1000W） | 1支 |
氙燈（1000W） | 1支 |
金鹵燈（500W） | 1支 |
攪拌裝置 | 1套 |
樣品反應瓶 | 1只（250ml,500ml,1000ml可選） |
反應罐 | 8只（30ml,50ml共8只） |
光催化降解反應釜CY-GHX-DC光化學反應裝置
在操作、維護和儀器的所有階段，都必須遵守以下的基本安全措施。在儀器使用時應按照說明書來操作,違規(guī)使用會造成儀器的正常工作，至使儀器損壞。
A、為了避免觸電事故，儀器的輸入電源線必須接地，本儀器使用的是三芯接地插頭，這種插頭有接地腳，如果插頭無法插入座內(nèi)，則應請電工安裝正確的插座，不要使儀器失去接地保護作用。
B、注意使用電源：
在連接交流電源之前，要確保電壓與儀器所要求的電壓一致(允許±10%的偏差)，并確保電源插座的額定負載不小于儀器要求。
C、注意使用電源線：
本儀器通常使用隨機附帶的電源線。如果電源線破損，必須更換不許修理。更換時必須用相同類型和規(guī)格的電源線代替。本儀器使用時電源線上不許放置任何物品。不要將電源線置于人員走動的地方。
D、注意儀器的安放：
本儀器應放在陰涼、通風、干燥、防塵較好的位置，為了更好的散熱效果，儀器通風處，于其它物品應保持有效距離(N﹥30cm)。
光催化凈化技術(shù)主要是利用光催化劑二氧化欽(T'02)吸收外界輻射的光能，使其直接轉(zhuǎn)變?yōu)榛瘜W能。當能量大于Ti02禁帶寬度的光照射半導體時，光激發(fā)電子躍遷到導帶，形成導帶電子(e-)，同時在價帶留下空穴階(h+)。由于半導體能帶的不連續(xù)性，電子和空穴的壽命較長，它們能夠在電場作用下或通過擴散的方式運動，與吸附在半導體催化劑粒子表面上的物質(zhì)發(fā)生氧化還原反應，或者被表面晶格缺陷俘獲。空穴和電子在催化劑粒子內(nèi)部或表面也能直接復合，空穴能夠同吸附在催化劑粒子表面的月口一或HZO發(fā)生作用生成經(jīng)基自由基HO " , HO.是一種活性很高的粒子，能夠無選擇的氧化多種有機物并使之礦化。
由于光催化還屬于一種新興的技術(shù)，有很多因素還需要額外考慮，諸如納米光催化劑的制備技術(shù)、納米光催化劑的高活性和高壽命技術(shù)、納米光催化劑的固載化技術(shù)和納米光催化劑反應的設(shè)計技術(shù)，這些因素的實現(xiàn)勢必會使得凈化器價格攀升，從而影響推廣。然而該技術(shù)最大的不足在于，從利用太陽光效率的角度看，半導體的光吸收波長范圍狹窄，主要在紫外區(qū)，利用太陽光的比例低;光生載流子的復合率很高，導致量子效率較低。
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